鍍鉻添加劑，鍍鉻陽極，化學除油劑，鍍鉻走位劑， 鍍鉻催化劑
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更新日期2019-01-15 08:47
品牌： |
南京安瑞泰科技有限公司 |
所在地： |
江蘇 南京市 |
起訂： |
≥10 公斤 |
供貨總量： |
99999 公斤 |
有效期至： |
長期有效 |
CR-2000硬鉻催化劑工藝使用說明
工藝特點
1.陰極電流效率高，可達23-25%
2.沉積速度快，是一般普通電鍍鉻的2-3倍
3.無陰極低電流區腐蝕
4.鍍層平滑，結晶細致光亮
5.高鍍層硬度，可達HV900-1150
6.微裂紋可達400-600條/厘米
7.鍍層厚度均勻，無高電流區沉積過厚
8.可使用高電流密度，可達90安培/平方分米
9.鍍液維護簡單，操作容易
10.無陽極腐蝕，不需采用特殊陽極
11.無固體添加之銘塵和濺水現象
二、鍍液配方和操作工藝
|
成分和參數 |
一 般 零 件 |
活 塞 環 |
||
|
范圍 |
標準 |
范圍 |
標準 |
|
|
鉻酸（克/升） |
210-240 |
230 |
160-190 |
180 |
|
硫酸（克/升） |
2.4-3.5 |
2.7 |
1.8-2.1 |
2.0 |
|
溫度（OC） |
55-60 |
57 |
55-60 |
57 |
|
陰極電流密度（A/dm2） |
30-75 |
45 |
30-75 |
60 |
|
陽極電流密度（A/dm2） |
15-35 |
30 |
15-35 |
30 |
三、鍍液配制
|
鍍件 |
鉻酸濃度（克/升） |
1000升鍍液 |
|
一般零件 |
210-250 |
20升CR-2000 |
|
活塞環 |
165-190 |
14升CR-2000 |
1.清洗槽子
2.注入一半體積去離子水
3.加入所需量的鉻酐
4.添加所需量的CR-2000
5.加入去離子水、調節至規定液面
6.加熱至55-60℃
7.分析硫酸濃度，調整至規定工藝范圍
8.電解4小時
9.加入適宜的鉻霧抑制劑
10.試鍍
四、沉積速度
|
陰極電流密度（A/dm2） |
沉積速度（微米/小時） |
|
30 |
20-30 |
|
45 |
40-50 |
|
60 |
50—70 |
|
75 |
70-90 |
沉積速度會隨溫度降低而稍有提升，但光亮范圍會變窄
五、設備
鍍槽：鐵槽內襯軟PVC或其它認可材料。
陽極：含錫7%鉛錫陽極或其它認可材料。
整流器：輸出電壓可達9-16伏較適宜，輸出電流波紋率最好在5%以下。
溫度控制：采用熱交換器或冷卻管，建議采用鈦管或金屬披覆聚四氟乙烯
六、、轉缸及前處理：
傳統的硬鉻液轉為CR-2000工藝簡單，將鍍液送交本廠化驗。
確認無機雜質小于7.5克/升，同時不含氟化物即可，CR-2000工藝的前處理同一般傳統鍍鉻相同無需特殊處理。
七、槽液維護：
CR-2000用于槽液之補充添加，按每千安培小時補充4-6毫升
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