廈門韞茂原子層沉積系統(tǒng)廠家
原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、高保形的納米薄膜。
原子層沉積系統(tǒng)廠家產(chǎn)品描述：
廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式ALD原子層沉積設(shè)備是材料研究的有力設(shè)備之一，它可以在4寸晶元（向下兼容）和微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積，具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，設(shè)各配有獨立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻，該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、晶元載盤，全自動溫控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計選項，是能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的研發(fā)工具
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原子層沉積系統(tǒng)廠家
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