即用型涂料配方，在濕膜厚度為12微米時，SR值低于200歐姆/平方。

Clevios F 100T

特殊穩(wěn)定的PEDOT:PSS分散體，適用于在60/90或85/85等苛刻環(huán)境測試中提高穩(wěn)定性的配方和涂料。

CLevios Etch和 CLevios Set S3

用于涂層線路圖案的輔助材料。CLevios Etch是一種水溶性粉末，CLevios Set S3是一種可印刷掩模（絲網(wǎng)印刷）。

賀利氏開發(fā)的一種特殊技術(shù)，通過濕法工藝對Clevios線路圖案進行處理。生成的線路肉眼幾乎看不見，因此不需要額外的步驟遮蓋，從而降低了成本。掩膜可以通過經(jīng)濟的絲網(wǎng)印刷、凹板印刷或柔性印刷工藝來完成，或者通過光刻膠來實現(xiàn)更精細的結(jié)構(gòu)。生產(chǎn)過程中，可以通過CCD進行光學(xué)檢測，這種特殊分析檢測方式很容易實現(xiàn)。賀利氏可提供技術(shù)支持服務(wù)。

應(yīng)用領(lǐng)域：（LCD/OLED/QLED）顯示器、照明、觸控傳感器、車載器件、有機太陽能電池、高分子電容器、抗靜電涂層、印刷電子。

clevios系列可提供用于原位聚合的單體、水基分散體、溶劑與添加劑混合而成的即用型配方材料。

歡迎來電咨詢！