離子源助鍍鍍膜可改善膜層致密性、增加折射率、反射率, 提升產品性能指標.
某國內光學鍍膜制造商為了制備 TiO2 薄膜并提升高反膜性能, 其采用離子源輔助蒸鍍 TiO_2薄膜.
經(jīng)過與伯東工程師討論, 該制造商最終采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時為了為鍍膜工業(yè)提供穩(wěn)定的合適的真空環(huán)境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達1x10-7hpa, 抽速可達 685 L/s, 很好保證成膜質量.
美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:
1. 大面積射頻離子源
2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求
3. 采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求
4. 離子束流: >1500 mA
5. 離子動能: 100-1200 V
6. 中和器: LFN 2000
7. 采用自動控制器, 一鍵自動匹配
8. RF Generator 可根據(jù)工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW
9. 離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝
10. 柵極材質鉬和石墨, 堅固耐用
11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others
運行結果：
與正常蒸鍍工藝相比, 基片溫度相同條件下, 使用 KRI 射頻離子源 RFICP 380 輔助沉積工藝, 可以有效提高的 TiO2 薄膜折射率；離子束助鍍工藝激光器峰值功率離散度最小, 且平均峰值功率普遍高于正常蒸鍍工藝.
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