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伯東KRI考夫曼離子源KDC 160輔助鍍制 HfO2 薄膜

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射頻離子源RFICP 380持續(xù)轟擊TiN薄膜獲得更優(yōu)秀性能

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美國霍爾離子源EH 3000用于蒸鍍天文望遠(yuǎn)鏡鏡片全反射膜

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KRI 射頻離子源成功用于輔助制備 MoS2 自潤滑涂層

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伯東KRI離子源輔助蒸發(fā)沉積鍍鋁膜, 改善鋁膜結(jié)構(gòu)及耐腐蝕性

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鍍膜制品掉膜的主要原因是…

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KRI 霍爾離子源輔助制備碳化硅改性薄膜

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考夫曼離子源 KRI 創(chuàng)始人 Harold Kaufman

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KRI 霍爾離子源 EH5000F 用于大尺寸光學(xué)蒸鍍機(jī)

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KRI 離子源可用于輔助鍍膜技術(shù) IAC

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KRI離子源輔助鍍膜IAD時(shí),霍爾離子源和考夫曼離子源哪個(gè)好

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KRI 離子源用于清潔聚合物表面時(shí), 如何選擇應(yīng)用的氣體

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KRI 寬束離子源的工作原理

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考夫曼射頻離子源RFICP380 在磁控濺射玻璃鍍膜中的應(yīng)用

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考夫曼平行型離子源RFICP220輔助DC/DC混合電路生產(chǎn)

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伯東KRI考夫曼射頻離子源RFICP140用于鍍制TiN薄膜

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伯東 KRI考夫曼霍爾離子源 eH 3000用于玻璃基片清洗

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伯東 KRI 考夫曼射頻離子源在 PCB 鉆頭銑刀上的應(yīng)用

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考夫曼射頻離子源RFICP 220 用于鐘表行業(yè)鍍制納米薄膜

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采購訂單編號(hào)：No.7900       發(fā)布時(shí)間：2021-01-27

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源用于純鈦表面氨基化改性的研究

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