KRI霍爾離子源可以在低功耗的情況下進(jìn)行大電流的工作, 很好的處理樣品的清潔度/和平整度; 可以根據(jù)不同的工藝要求來(lái)控制樣品表面的光滑/粗糙程度; 一致且可靠地去除表面污染物, 以暴露原始基材, 達(dá)到清洗前處理的作用.

穩(wěn)定工藝并提高產(chǎn)品產(chǎn)量. KRI離子源清洗在在真空室中進(jìn)行, 基板表面清潔后可以立即沉積, 短停留時(shí)間暴露于真空背景清潔并活化基材表面比輝光放電更清潔, 生產(chǎn)率更高; 無(wú)需基板偏置/無(wú)需高壓, 消除了大多數(shù)腔室壁的濺射, 沒(méi)有額外的抽空, 很好地提高了整體工藝的效率與質(zhì)量.

中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)科學(xué)儀器股份有限公司客戶選用KRI EH1000型霍爾離子源組裝磁控濺射設(shè)備對(duì)聚氨酯類的材料進(jìn)行清洗前處理.

離子源清洗樣品的示意圖：

KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:

? 可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 最大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極

? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無(wú)需水冷

? 高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術(shù)參數(shù):

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Sidewinder

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