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在制備 TiN 薄膜過程中, 離子持續(xù)轟擊對 TiN 薄膜的結構和性能影響很大, 在離子持續(xù)轟擊作用下能夠獲得性能優(yōu)異的TiN薄膜.

為了獲取性能優(yōu)異的 TiN 薄膜, 國內某制造商采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 對 TiN 薄膜進行持續(xù)轟擊. 工作系統(tǒng)簡單示意如下圖:

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 技術參數：

portant;"> 射頻離子源型號	portant;"> RFICP 380
portant;"> Discharge 陽極	portant;"> 射頻 RFICP
portant;"> 離子束流	portant;"> >1500 mA
portant;"> 離子動能	portant;"> 100-1200 V
portant;"> 柵極直徑	portant;"> 30 cm Φ
portant;"> 離子束	portant;"> 聚焦, 平行, 散射
portant;"> 流量	portant;"> 15-50 sccm
portant;"> 通氣	portant;"> Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
portant;"> 典型壓力	portant;"> < 0.5m Torr
portant;"> 長度	portant;"> 39 cm
portant;"> 直徑	portant;"> 59 cm
portant;"> 中和器	portant;"> LFN 2000

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:

1. 大面積射頻離子源

2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求

3. 采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求

4. 離子束流: >1500 mA

5. 離子動能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自動控制器, 一鍵自動匹配

8. RF Generator 可根據工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW

9. 離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝

10. 柵極材質鉬和石墨, 堅固耐用

11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

應用結果：

通過使用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 持續(xù)轟擊 TiN 薄膜, 備的TiN 薄膜具有更致密的結構, 更光滑的表面, 更好的結晶性, 更優(yōu)異的機械性能和更好的腐蝕性能.

其使用前（左）和使用后（右）對比圖如下：

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
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