客戶項目使用圖:

美國 KRI 霍爾離子源 EH 3000 HC 主要技術(shù)參數(shù):

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portant;"> 尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6” 放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A 可通氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 離子束發(fā)散角度：> 45° (hwhm) 水冷

應(yīng)用結(jié)果：

1. 通過使用上海伯東 KRI 霍爾離子源EH 3000 HC輔助鍍?nèi)瓷淠? 高均勻性及高致密性的膜層可以保障光源有效反射, 盡可能減少吸收. 

2. 直徑 2.2m 鍍膜腔, 僅需安裝1臺霍爾離子源 EH 3000 HC, 即可完成鍍膜, 直接降低企業(yè)成本!
 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
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