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其系統(tǒng)工作示意圖如下：
該研究所的離子束濺射鍍膜組成系統(tǒng)主要由濺射室、雙離子源、濺射靶、基片臺(tái)等部分組成.
其中雙離子源中的一個(gè)離子源適用于濺射靶材, 另個(gè)離子源是用于基材的預(yù)清洗.
用于濺射的離子源采用伯東的 KRI 聚焦型射頻離子源 380, 其參數(shù)如下:
伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù)：
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射頻離子源型號(hào) |
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RFICP 380 |
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Discharge 陽(yáng)極 |
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射頻 RFICP |
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離子束流 |
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>1500 mA |
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離子動(dòng)能 |
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100-1200 V |
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柵極直徑 |
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30 cm Φ |
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離子束 |
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聚焦 |
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流量 |
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15-50 sccm |
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portant;">
通氣 |
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
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< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
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39 cm |
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直徑 |
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59 cm |
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中和器 |
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LFN 2000 |
推薦理由：
聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
用于預(yù)清洗的離子源是采用伯東 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):
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離子源型號(hào)
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霍爾離子源
eH3000 |
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Cathode/Neutralizer |
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HC |
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電壓 |
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50-250V |
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電流 |
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20A |
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散射角度 |
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>45 |
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可充其他 |
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Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
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氣體流量 |
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5-100sccm |
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高度 |
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6.0“ |
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直徑 |
portant;">
9.7“ |
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水冷 |
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可選 |
其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5Pa, 經(jīng)推薦采用伯東分子泵組 Hicube 80 Pro, 其技術(shù)參數(shù)如下：
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進(jìn)氣法蘭 |
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氮?dú)獬樗?br /> N2,l/s |
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極限真空 hpa |
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前級(jí)泵 型號(hào) |
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前級(jí)泵抽速 |
portant;">
前級(jí)真空 |
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DN 40 ISO-KF |
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35 |
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< 1X10-7 |
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Pascal 2021 |
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18 |
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AVC 025 MA |
運(yùn)行結(jié)果：
伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術(shù)可以制備不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜.
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.
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