VAT真空閥的設(shè)計適用于所有真空度，直至高真空、超高真空和超高真空條件。  
VAT真空閥是在潔凈室條件下生產(chǎn)的，并為其各自的應(yīng)用量身定做。除了高純度外，VAT真空閥由于其高度精確的功能和耐用性，即使在的運行條件下也表現(xiàn)佳。  
通過全面的真空隔離閥和控制閥、氣體定量閥、傳輸閥和排氣閥、淹沒閥以及快速關(guān)閉閥的產(chǎn)品組合，VAT為所有應(yīng)用領(lǐng)域提供了解決方案。  
技術(shù)是關(guān)鍵，為了地保證真空隔離或控制功能，VAT真空閥采用了VAT開發(fā)的不同的真空閥技術(shù)。這些技術(shù)除了確保防止顆粒物的功能外，還確保在大量的關(guān)閉和控制周期內(nèi)精確運行。  
VAT真空閘閥、應(yīng)用廣泛的真空角閥以及蝶式真空閥、擺式真空閥或全金屬真空閥因此為所有領(lǐng)域的真空閥解決方案設(shè)定了標準。  
某些真空工藝對工藝環(huán)境的純度以及化學和物理穩(wěn)定性有特別高的要求。例如，這適用于幾乎所有的半導體生產(chǎn)領(lǐng)域，以及許多使用真空系統(tǒng)的研究設(shè)施。在基礎(chǔ)研究領(lǐng)域，處理條件的能力，如非常高或低的溫度、強輻射和壓力高達10-15mbar的高真空（XHV）--目前技術(shù)上可行和可測量的極限--常常被添加到這些要求中。  
這些應(yīng)用中的真空閥在以下方面與標準真空閥不同:  
最小化的顆粒排放  
高性能真空閥經(jīng)過優(yōu)化，不會通過其外殼、機械裝置或密封件的材料放出顆粒，也不會通過其開閉或控制運動的摩擦放出顆粒。這是通過對所用材料的特殊選擇和處理，以及通過某些設(shè)計細節(jié)來實現(xiàn)的，這些細節(jié)可以最大限度地減少或在某些情況下消除粒子的釋放。  
最小化的運動脈沖  
每一個閥門通過其開啟和關(guān)閉運動產(chǎn)生運動脈沖。在自動驅(qū)動閥門的情況下，這些脈沖的范圍可以從輕微的振動到可以聽到和感知的硬沖擊。這些運動脈沖可能會對敏感的制造工藝產(chǎn)生負面影響，例如，通過額外的顆粒釋放。除了設(shè)計特點外，高性能真空閥主要通過控制所謂的運動曲線來減少這些脈沖。與乘客電梯的運行方式類似，在到達關(guān)閉點前不久，關(guān)閉速度會減慢，以防止"撞擊"。這些運動曲線通常可以被修改，例如，在關(guān)閉時間和關(guān)閉頻率方面，它們可以適應(yīng)所需條件。  
VAT真空閥門  
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